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滑式真空爐CVD系統

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產品型號S-1200HZ-CVD

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更新時間:2022-02-12 10:03:13瀏覽次數:487次

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產品簡介

滑式真空爐CVD系統由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統,真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現快速的升降溫

詳細介紹

功能特點:
本套系統由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統,真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現快速的升降溫;配置不同的真空系統來達到理想的真空度;同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。
產品用途:
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備
產品參數

  • 爐體結構:雙層爐殼間配有風冷系統,有效保證外殼表面溫;真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好
  • 電源電壓:AC220V 50/60Hz;
  • 功率:4KW
  • 爐管材質:高純石英管,高溫下化學穩定性強,耐腐蝕,熱膨脹系數極小
  • 爐管尺寸:Φ40/60/80/100*1200mm
  • 加熱系統:加熱元件采用優質合金絲0Cr27Al7Mo2,表面負荷高、經久耐用
  • 加熱區長度:440mm(可定制)
  • 恒溫區長度:200mm(可定制)
  • 工作溫度:≤1150℃(可定制)
  • 溫度:1200℃(可定制)
  • 升溫速率:10℃/min
  • 溫控系統:溫度控制采用人工智能調節技術,具有PID調節、自整定功能30段升降溫程序
  • 測溫元件:N型熱電偶
  • 恒溫精度:±1℃
  • 混氣系統:三路質量流量計:數字顯示、氣體流量自動控制
  • 內置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥
  • 管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套
  • 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥
  • 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量
  • 流量規格:0~1SLM
  • 流量精度:±1.5%
  • 極限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 標準配件:數顯式真空壓力表;可選高真空系統及真空計,壓力控制系統等
  • 可選配件:混氣系統,中、高真空系統,各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀。


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