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河南熱處理設備有限公司
滑式真空爐CVD系統由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統,真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現快速的升降溫
功能特點:
本套系統由滑動式開啟式真空管式爐,混氣系統,真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃,通過滑動爐體來實現快速的升降溫;配置不同的真空系統來達到理想的真空度;同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。
產品用途:
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備
產品參數
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