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煙臺金鷹科技有限公司
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為了提高玻璃面板的強度和硬度,在化學鋼化前需要進行清洗,如果清洗不良,則影響增強效果。傳統的清洗方法是先用洗滌劑刷洗,再用酸液、堿液與有機溶劑超聲波清洗,工序復雜,費時費工,且造成污染。等離子清洗機設備空間聚集的離子、電子、激發態原子、分子及自由基均為活性粒子,易于和材料表面發生反應,因而在滅(菌)、表面改性、薄膜沉積、刻蝕加工、器件清洗等領域得到廣泛應用,但放電和反應室均處于真空。等離子清洗機對基片表面吸附的環境氣體、水汽、污物等進行轟擊，使其活化，使表面清潔，提高表面能量，當沉積時薄膜原子或
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激光微盲孔結構的清洗是如何被等離子體清洗機解決的呢？隨著HDI板孔徑的微小化，傳統的化學清洗工藝已不能滿足盲孔結構的清洗，液體表面張力使藥液滲透進孔內有困難，特別是在處理激光鉆微盲孔板時，可靠性不好。目前應用于微埋盲孔的孔清洗設備主要有超聲波清洗機和等離子體清洗機，超聲波清洗主要依據空化效應來達到清洗的目的，屬于濕法處理，清洗時間較長，且依賴于清洗液的去污性能，增加了對廢液的處理問題?，F階段普遍應用的工藝主要為等離子清洗機等離子清洗機的技術特點是∶它不分處理對象，可處理不同的基材;如金屬、半導體
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離子體清洗機在光學隱形眼鏡上主要是在鍍膜前活化隱形眼鏡鏡片的材料，和侵蝕材料表面，暴露出下面的表層。等離子清洗機可以替代難用又耗時而且價格還很昂貴的化學濕化方法。利用等離子處理設備可以降低其成本，另外對產品本身也沒有任何的影響，不會影響其性能。用于制造隱形眼鏡的玻璃模具帶有成型時產生的聚合物污染層（例如CR-39或PC）和/或脫模劑。通常用濕法清洗來洗掉這些殘余物，但隨之而來的不*的噴淋、水痕、建造清洗槽等會影響表面的美性，而用等離子體清洗機可以很好地清潔這些鏡片。并提升產品的性能，以達到的效果
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等離子表面處理設備也叫等離子清洗機，是將高頻高壓施加于放電電極上，以產生大量的等離子氣體，與處理對象的表面分子直接或間接作用，使其表面分子鏈上產生羰基和含氮基團等極性基團，表面張力明顯提高，加之糙化其表面去油污、水氣和塵垢等的協同作用改善表面的粘附性，達到表面預處理的目的等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過等離子清洗機的處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
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等離子清洗機采用“MicrowaveRadicalPlasmaSource+RFBias”配置，可實現高自由基密度及可控的等離子體密度，保證了高的刻蝕速率和低的工藝損傷，滿足PRStrip及工藝中制程高效、低損、高均勻性的要求。等離子清洗設備配置了全自動化搬運系統，可兼容4、6、8英寸晶圓，可配置4個工藝位，產出率高。靈活的系統配置，適合集成電路客戶的不同應用，可為客戶提供全面的等離子去膠工藝解決方案。此外，等離子清洗設備可根據客戶要求拓展產品功能和PM數量，具備良好的技術擴展性，滿足多種工藝制
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專為半導體晶圓去膠和封裝預處理設計的等離子清洗機，采用全自動晶圓搬運系統，每個腔室獨立控制，采用多元化配置，滿足大批量生產的需求。多樣化配置設計，可滿足不同的工藝需求。緊湊的模塊化設計，滿足高產能輸出的需求。等離子清洗機對半導體晶圓去膠和封裝預處理的應用：聚合物剝離金屬剝離掩膜材料去除高劑量離子注入后光刻膠去除碳化硅、氮化鎵、砷化鎵、磷化銦生產線光刻膠去除晶圓表面預處理手機等離子表面處理設備的應用:1、手機蓋板:手機蓋板生產中,手機蓋板需要進行鍍膜,鍍膜前為了鍍膜附著力高2、LED行業-支架清洗
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等離子清洗機是一種非常的清洗技術，簡單來說，等離子清洗機就是等離子體和材料表面進行相互作用的過程，通過等離子體里面的各類活性粒子撞擊材料表面，從而大大提高材料表面的性能。第一，通過等離子清洗機表面改性之后，其材料表面會變得更加粗糙，有時候表面行蹤也會發生一段的變化，這就是等離子表面改性所起到作用，它讓材料表面發生了刻蝕，在一定程度上滿足了人們對材料表面的清洗要求。第二，經過等離子清洗機表面改性之后，材料表面就會更具有反應活性，在這個過程中，活性粒子在撞擊材料表面之后，其分子間的化學鍵就會被打開，
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等離子表面處理機，低溫常溫等離子清洗機：金屬、陶瓷、塑料、橡膠、玻璃等表面常常會有油脂油污等有機物及氧化層，在進行粘接、綁定、油漆鍵合焊接銅焊和PVD、CVD涂覆前，需用等離子處理設備來得到*潔凈和無氧化層的表面。等離子清洗機在半導體行業、航空航天技術、精密機械、汽車工業、醫療、塑料、考古、印刷、納米技術、科研開發、液晶顯示屏、電子電路、通訊及手機零部件等廣泛的行業中有著不可替代的應用plasma等離子清洗機表面處理設備廣泛應用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過等離子清洗機的表面處
