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JYSC-1000離子濺射儀

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更新時間:2021-07-29 14:42:27瀏覽次數:486次

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產品簡介

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜(如金膜)或材料鍍膜,儀器性能穩定,操作簡單方便

詳細介紹

此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜(如金膜)或材料鍍膜,儀器性能穩定,操作簡單方便。采用磁控冷態濺射,基本不升溫,限度保護樣品。

主要特點:

² 顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗,方便觀察操作;

² 真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

² 微調閥調節靈敏準確,帶有刻度標識;

² 真空泵抽速快,噪音低,適合實驗室使用;

² 控制電路為控制板,工作穩定可靠;

² 顯示控制操作部分布局合理,位于同側,使用方便;

² 磁控冷態濺射,基本不升溫,限度保護樣品;

技術參數:

1.樣品室空間:直徑120mm×高110mm
2.Au靶為標配,靶材尺寸:φ50mm×0.1mm
3.獨立真空控制電路設計,實現真空度和濺射電流,安全互鎖,可調電流40mA;
4.侵入式磁控低溫離子源,可快速更換靶材,環繞暗區護罩;
5.使用獨立計時控制器,精準計時,可調設置范圍:1-500秒,連續可調
6.自動真空泄氣功能,自動排氣,可通過數字定時器進行控制
7.進口真空泵,抽速8.5m3/h,噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上,全金屬集成耦合系統
8.微型真空氣閥:高精度微量流量閥,精度±0.1Pa

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