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EMS150 離子濺射儀

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更新時間：2022-10-26 17:51:06瀏覽次數：200次

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產品簡介

EMS150/300是一款多功能緊湊型鍍膜系統

詳細介紹

EMS 150/300是一款多功能緊湊型鍍膜系統, 對于SEM, FESEM,TEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想, 直徑為165mm/300mm的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品, 尤其在配套電鏡應用中提高成像質量提供6個版本的儀器：
EMS150R S Plus – 噴金儀/離子濺射儀（真空噴鍍非氧化型金屬, Au, Pt, Pd等）
EMS150R E Plus – 噴碳儀/碳蒸鍍儀（真空噴鍍碳膜, 特別適用于EDS,EBSD）
EMS150R ES Plus–真空鍍膜儀（集150R S和150R E功能于一體, 結構緊湊）
EMS150T S Plus– 高真空離子濺射儀（分子泵超高真空, 多靶材, Cr, W, Cu, Pt等）
EMS150T E Plus– 高真空碳蒸鍍儀（分子泵超高真空適用于TEM/Cs-TEM使用）
EMS150T ES Plus–高真空鍍膜儀（集150T S和150T E功能于一體, 結構緊湊）
EMS300R T–超大樣品室多濺射頭鍍膜儀（ 300mm超大樣品室，3個濺射頭保證大面積均勻鍍膜效果）
150R是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統，對于SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想。直徑為165mm/6.5"的腔室可容納多種需要鍍導電膜的樣品 – 尤其用于在SEM應用中提高成像質量。
150R S Plus
機械泵抽真空離子濺射鍍膜儀，適于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），如金、銀、鉑和鈀。
150R E Plus
機械泵抽真空蒸發鍍碳儀，使用碳絲或碳繩為SEM樣品鍍膜。
150R ES Plus
集150R S Plus 和150R E Plus兩者的功能于一體，節省空間。這個雙重用途、結構緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統標配有濺射插入頭和碳絲蒸發插入頭 – 可提供無與倫比的多用途鍍膜。
此外，輝光放電選項也是可用的（僅150R S Plus和150R ES Plus版本），它可實現樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）。
快速簡便：快速、易更換的鍍膜插入頭，能在同一個緊湊設計中實現金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉換。
采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數據。與鍍膜處理方法及鍍膜材料相適配的鍍膜參數方案可通過觸摸按鍵實現預設并儲存。自動放氣控制功能確保了濺射期間的真空狀態，可提供良好的一致性和可重復性。
易使用：智能識別系統可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭，以便立即運行相應的鍍膜方案。可存儲多個用戶自定義的鍍膜方案 – 這對于需更改鍍膜參數實現不同應用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品；所有樣品臺都帶有快速、易更換及落入式設計的特點。
功能強大、可重復鍍膜及高可靠性：可預編程的鍍膜參數及方案能確保一致且可重復的結果。需要沉積厚膜時，本系統提供長達60分鐘且無需破真空的濺射時間。設計*的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發電流參數的控制，確保了SEM應用中一致的和可重復的碳沉積。可選的膜厚監控附件用于可重復的膜厚控制。
適配性強且用途廣：濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件，使Q150R對于多用戶實驗室應用非常理想?？蔀R射一系列不氧化金屬，如金、銀、鉑和鈀。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非?？?。也可選用碳棒蒸發。還可應用于金屬薄膜研究及電極的應用。
EMS 150R S Plus– 緊湊型機械泵濺射儀，適合非氧化金屬
EMS 150R E Plus– 緊湊型機械泵鍍碳儀
EMS 150R ES Plus–集成了離子濺射和碳蒸鍍兩種沉積功能的緊湊型機械泵鍍膜儀
新款改進
● 觸摸屏更換成便于操作的電容觸摸屏
● 固件更新，新版操作界面類似安卓系統，便于客戶上手
● 新的彩色LED可視狀態指示燈
● USB接口可以用于固件更新，并可將鍍膜方案文件備份/復制到USB存儲設備
● 可以通過USB端口以.csv格式導出過程日志文件，以便統計分析
技術參數
儀器尺寸 585mm W x 470mm D x 410mm H (打開鍍膜頭時總高 650mm)
重量 28.4kg
包裝尺寸 725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)
工作腔硼硅酸鹽玻璃，152mm ? (內) x 127mm H
安全鐘罩 PET材質
顯示 145mm 320 x 240 彩色圖形TFT (Thin Film Transistor)顯示
用戶界面直觀全圖形界面，觸摸屏控制
濺射頭標配 57mm ?、0.1mm厚金靶（Q150R S，Q150R ES）
樣品臺 50mm ?旋轉樣品臺，帶6個15mm、10mm、6.5mm或1/8"釘形樣品座孔，旋轉速度8-20 rpm
真空
機械泵 Edwards RV3 50L/s雙程機械泵
真空測量標配Pirani規
極限真空 2 x 10-2mbar
工作真空 3 x 10-2 mbar與5 x 10-1mbar之間
操作過程
濺射 0-80mA，濺射時間60 min
碳蒸鍍電流脈沖：碳繩，1-60 A；1.4mm ?碳棒，1-90 A
輝光放電 0-80mA，DC+及DC-模式
其它
工作氣體 Ar氣，99.999%，N2為排放氣體（選件）
電源 90-250V ~ 50/60 Hz 1400 VA
認證 CE

關鍵詞：離子濺射儀貴金屬

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