產品簡介：
EVG 620NT是一款通用性和可靠性*的光刻機，提供*的掩膜對準技術。可選擇半自動或全自動配置，滿足大批量生產和Fab標準。
主要特點及參數：
·支持6英寸（150mm）晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理，可快速轉換多尺寸晶圓
·全自動頂部及底部對準：
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±1μm
紅外對準精度≤±2μm（取決于襯底材料）
·支持汞燈或的UV-LED光源
·支持半自動原位升級為全自動
·可選配功能：
鍵合對準
紅外對準
納米壓印光刻（NIL）
暫無信息 |
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產品簡介：
EVG 620NT是一款通用性和可靠性*的光刻機，提供*的掩膜對準技術。可選擇半自動或全自動配置，滿足大批量生產和Fab標準。
主要特點及參數：
·支持6英寸（150mm）晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理，可快速轉換多尺寸晶圓
·全自動頂部及底部對準：
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±1μm
紅外對準精度≤±2μm（取決于襯底材料）
·支持汞燈或的UV-LED光源
·支持半自動原位升級為全自動
·可選配功能：
鍵合對準
紅外對準
納米壓印光刻（NIL）
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