產品簡介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產線。
主要特點及參數:
·支持12英寸(300mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.25μm
底部對準精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
當前位置:亞科電子(包括亞科電子(香港)有限公司、北京亞科晨旭科技有限公司等)>>單面/雙面光刻系統>> EVG IQ Aligner NT光刻系統
產品簡介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產線。
主要特點及參數:
·支持12英寸(300mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.25μm
底部對準精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
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