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EVG IQ Aligner NT光刻系統

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更新時間:2024-04-27 07:20:29瀏覽次數:138次

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EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產線。

產品簡介:

EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產線。

 

主要特點及參數:

·支持12英寸(300mm)晶圓

·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。

·全自動頂部及底部對準:

頂部對準精度≤±0.25μm

底部對準精度≤±0.5μm

·支持Casettes, SMIF或FOUP上料

·可選配功能:

紅外對準(透射或反射)

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