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MDPpro 晶圓片/晶錠壽命檢測儀

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更新時間:2021-06-30 08:21:06瀏覽次數(shù):268次

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經(jīng)營模式:代理商

商鋪產(chǎn)品:91條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:丁林 (市場部經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介

Mono-andMulti-crystallinewaferandbricklifetimemeasurementdevice應用范圍:用于常規(guī)質(zhì)量控制、精密材料研發(fā)的單晶和多晶片及晶錠的壽命測量根據(jù)SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無損成像(PCD/MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查

詳細介紹

Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device

應用范圍:用于常規(guī)質(zhì)量控制、精密材料研發(fā)的單晶和多晶片及晶錠的壽命測量

 

 

根據(jù)SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無損成像(μPCD / MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查。

晶圓切割,爐內(nèi)監(jiān)控,材料優(yōu)化等。


日常壽命測量,質(zhì)量控制和檢驗 

  1. 產(chǎn)量:>240塊/天或>720片/天
  2. 測量速度:對于156x156x400mm標準晶錠,<4分鐘
  3. 生產(chǎn)改善:1mm切割標準為156x156x400mm標準晶錠
  4. 質(zhì)量控制:用于過程和材料的質(zhì)量監(jiān)控,如單晶硅或多晶硅
  5. 污染測定:起源于爐和設備的金屬(Fe)
  6. 可靠性:模塊化和堅固耐用的工業(yè)儀器,更高的可靠性和運行時間> 99%
  7. 可重復性:> 99.5%
  8. 電阻率:不需要經(jīng)常校準

精密材料研發(fā)

  1. 陷阱濃度測定
  2. 硼氧測定
  3. 依賴于注入的測量等
  4. 鐵濃度測定

特性

  1. *無觸點無破壞的半導體特性
  2. 特殊的“表面之下”壽命測量技術(shù)
  3. 不可見缺陷的 靈敏度的可視化
  4. 自動切割標準定義
  5. 空間分辨p/n電導型變換檢測

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