詳細摘要： 狹縫式薄膜涂布機（狹縫擠出式涂布機/鈣鈦礦太陽能電池涂布機）適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產品型號：CS18所在地：上海市更新時間：2021-06-07 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
邁可諾技術有限公司
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詳細摘要： 狹縫式薄膜涂布機（狹縫擠出式涂布機/鈣鈦礦太陽能電池涂布機）適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產品型號：CS18所在地：上海市更新時間：2021-06-07 在線留言
詳細摘要： Harrick 氣體流量控制器技術參數：緊湊的臺式設備、符合CE 安全標準兩個標準的氣體流量計（0.104 scfh & 0.22 scfh）
產品型號：PDC-FMG-2所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： Tg = 60℃優異的成膜質量由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間
產品型號：mr-I 7000E、mr-I 8000E所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以...
產品型號：全系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。
產品型號：全系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： Futurrex產品優勢：1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）2、負性光刻膠常溫下可保存3年3、150度烘烤，縮短了烘烤時間4、單次旋...
產品型號：RD3、RD6所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHAR...
產品型號：PR3、PR41所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： SU-8 3000抗蝕劑經過專門設計，可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬，噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑，例如乳酸乙酯和雙丙酮...
產品型號：3010/3005/3025/3050所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果，應使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后...
產品型號：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： EM Resist SU-8負性抗蝕劑產品，非常適合半導體應用。我們的產品有各種形式和厚度范圍。
產品型號：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，穩定的接近式和接觸式光...
產品型號：NXQ4000系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機（Mask Aligner），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻...
產品型號：MMA16所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發中心和大學中的微機開發。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...
產品型號：MEMA-800所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器，在晶片的頂側和底側包括對準光學系統，因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸，軟接觸和接近圖...
產品型號：MPEM-1600所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產品型號：CESx124所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 手動型SCS112SCS112型是一款高效率手動型的系統，專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片。可通過施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環（抓環）或膠片框架...
產品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產品型號：WS-1000M所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： Laurell-EDC勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠...
產品型號：EDC-650HZ-23NPPB所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 特點：1.帶進膠保護與報警2.旋涂正反轉可自由切換3.帶速度上升曲線實時顯示4.吸附不足報警與互鎖 5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕6.腔室帶抽廢...
產品型號：KW-4E所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： SPIN德國勻膠機150i型適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列勻膠機具有穩定的轉速和快速的啟動，...
產品型號：SPIN150i所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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