邁可諾技術(shù)有限公司
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詳細(xì)摘要： 狹縫式薄膜涂布機(jī)（狹縫擠出式涂布機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池涂布機(jī)）適用于有機(jī)太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產(chǎn)品型號：CS18所在地：上海市更新時間：2021-06-07 在線留言
詳細(xì)摘要： Harrick 氣體流量控制器技術(shù)參數(shù)：緊湊的臺式設(shè)備、符合CE 安全標(biāo)準(zhǔn)兩個標(biāo)準(zhǔn)的氣體流量計（0.104 scfh & 0.22 scfh）
產(chǎn)品型號：PDC-FMG-2所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Tg = 60℃優(yōu)異的成膜質(zhì)量由于高效的流動性和快速壓印從而縮短整個工藝時間
產(chǎn)品型號：mr-I 7000E、mr-I 8000E所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以...
產(chǎn)品型號：全系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。
產(chǎn)品型號：全系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢：1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年3、150度烘烤，縮短了烘烤時間4、單次旋...
產(chǎn)品型號：RD3、RD6所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHAR...
產(chǎn)品型號：PR3、PR41所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： SU-8 3000抗蝕劑經(jīng)過專門設(shè)計，可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬，噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑，例如乳酸乙酯和雙丙酮...
產(chǎn)品型號：3010/3005/3025/3050所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后...
產(chǎn)品型號：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。
產(chǎn)品型號：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，穩(wěn)定的接近式和接觸式光...
產(chǎn)品型號：NXQ4000系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻...
產(chǎn)品型號：MMA16所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴...
產(chǎn)品型號：MEMA-800所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準(zhǔn)器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對準(zhǔn)對頂側(cè)表面進(jìn)行接觸，軟接觸和接近圖...
產(chǎn)品型號：MPEM-1600所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產(chǎn)品型號：CESx124所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 手動型SCS112SCS112型是一款高效率手動型的系統(tǒng)，專門設(shè)計用于在劃片或劃片后清洗晶片。可通過施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環(huán)（抓環(huán)）或膠片框架...
產(chǎn)品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產(chǎn)品型號：WS-1000M所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機(jī)由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠...
產(chǎn)品型號：EDC-650HZ-23NPPB所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 特點(diǎn)：1.帶進(jìn)膠保護(hù)與報警2.旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換3.帶速度上升曲線實(shí)時顯示4.吸附不足報警與互鎖 5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕6.腔室?guī)С閺U...
產(chǎn)品型號：KW-4E所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細(xì)摘要： SPIN德國勻膠機(jī)150i型適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列勻膠機(jī)具有穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟動，...
產(chǎn)品型號：SPIN150i所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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