詳細摘要： PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統融合了下面的特點，并在眾多的應用領域中得到肯定。
產品型號：PPC973所在地：上海市更新時間：2022-10-15 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
邁可諾技術有限公司
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詳細摘要： PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統融合了下面的特點，并在眾多的應用領域中得到肯定。
產品型號：PPC973所在地：上海市更新時間：2022-10-15 在線留言
詳細摘要： 遠程等離子清潔的原理遠程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發等離子體，分解輸入氣體而產生氧或氫的活性基，活性基...
產品型號：EM-KLEEN所在地：上海市更新時間：2022-10-14 在線留言
詳細摘要： PSD Pro系列：PSDP 系列產品是研究級的紫外臭氧清洗系統，具有*的靈活性，能滿足有機分子去除和其他眾多的應用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣...
產品型號：PSDP-UV4T所在地：上海市更新時間：2022-10-04 在線留言
詳細摘要： PSD系列產品是數字控制的臺式清洗設備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤, 和可調節高...
產品型號：PSD-UV8所在地：上海市更新時間：2022-10-03 在線留言
詳細摘要： Harrick 氧等離子表面處理儀除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能：等離子體表面處理儀的等離子體作用于材料表面，使表面分子的...
產品型號：PDC-002所在地：上海市更新時間：2022-10-03 在線留言
詳細摘要： 1）腔體材質：圓柱形石英玻璃艙；2）腔體容積：2.6L；3）腔體尺寸：內徑：110毫米，深度：280毫米。
產品型號：Tergeo所在地：上海市更新時間：2022-07-22 在線留言
詳細摘要： 1、13.56MHz高頻射頻發生器；2、7英寸觸摸屏控制界面，全自動操作；3、標配75W版本，可選150W版本；4、系統具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動表...
產品型號：Tergeo-Plus所在地：上海市更新時間：2022-07-22 在線留言
詳細摘要： 進口狹縫涂布儀英國OSSILA系統為您的研究提供以下益處：?不銹鋼槽模頭為您提供均勻的分配解決方案?內置便捷的操作軟件 - 該系統擁有自己的獨立數字控制系統，因...
產品型號：L2005A1所在地：上海市更新時間：2021-07-23 在線留言
詳細摘要： 狹縫式薄膜涂布機（狹縫擠出式涂布機/鈣鈦礦太陽能電池涂布機）適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續基材如LCD玻璃基板光阻涂布，...
產品型號：CS18所在地：上海市更新時間：2021-06-07 在線留言
詳細摘要： Harrick 氣體流量控制器技術參數：緊湊的臺式設備、符合CE 安全標準兩個標準的氣體流量計（0.104 scfh & 0.22 scfh）
產品型號：PDC-FMG-2所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以...
產品型號：全系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： Futurrex產品優勢：1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）2、負性光刻膠常溫下可保存3年3、150度烘烤，縮短了烘烤時間4、單次旋...
產品型號：RD3、RD6所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果，應使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后...
產品型號：2035/2050/2075/2100所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： EM Resist SU-8負性抗蝕劑產品，非常適合半導體應用。我們的產品有各種形式和厚度范圍。
產品型號：GM1010/GM1020/GM1075所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，NXQ4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，穩定的接近式和接觸式光...
產品型號：NXQ4000系列所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： MYCRO*荷蘭MMA16光刻機（Mask Aligner），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻...
產品型號：MMA16所在地：上海市更新時間：2021-05-21 在線留言
詳細摘要： 光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器，在晶片的頂側和底側包括對準光學系統，因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸，軟接觸和接近圖...
產品型號：MPEM-1600所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 簡介：這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇，...
產品型號：CESx124所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單...
產品型號：WS-1000M所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言
詳細摘要： 勻膠機（spin coater）的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制...
產品型號：POLOS450所在地：上海市更新時間：2021-05-20 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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