光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器，在晶片的頂側和底側包括對準光學系統，因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸，軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的準確對準可能是通過高分辨率光學系統實現的，該光學系統的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調成對的物鏡之間的間隔，所以不規則形成的晶片也可以自由地對準。

詳細介紹

一、掩膜曝光光刻機Mask Aligner產品簡介：

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準器，在晶片的頂側和底側包括對準光學系統，因此可以與頂側對準對頂側表面進行接觸，軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的準確對準可能是通過高分辨率光學系統實現的，該光學系統的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調成對的物鏡之間的間隔，所以不規則形成的晶片也可以自由地對準。

		MPEM-1600	MPEM-12M	MPEM-16M
光罩尺寸		多5英寸	多7英寸	多9英寸
晶圓尺寸		高達4英寸（無定形）	高達6英寸（無定形）	高達8英寸（無定形）
面罩架滑動		手動卡盤
面具運動		X =±3毫米，Y =±3毫米
接觸	方法	軟接觸/硬接觸/接近暴露
	照明	250W超高壓蒸氣汞燈	500W超高壓蒸氣汞燈
	照明不規則	±5％
	有效接觸面積	直徑100毫米	直徑150毫米	直徑200毫米
	解析度	3mµ L / S
對準	方法	目鏡觀察（精神領域系統）		9英寸視頻監控系統
	物鏡	10X兩對（上/下）
	目鏡	NWF 10X（一對）		--
	總放大倍率	100倍		200倍
	物鏡分離	15?90毫米	80?140毫米	55?184毫米
	聚焦單元	手冊
	對準范圍	X，Y =±4mmθ =±22.5°	X，Y =±4mmθ =±5°
	對齊間隙	09?99微米
	對準精度	小于±5mm
實用工具	主機電源	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（600W）
	水銀燈電源	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（550W）	100-220V，50 / 60Hz，15A（1,100W）
	氮氣	0.4?0.5兆帕	100-220V AC，50 / 60Hz，15A（1,100W）
	真空壓力	小于21.3kPa （從大氣壓到-80kPa ）
尺寸（主機）		750（寬）x 820（深）x 1,700（高）mm	940（寬）x 860（深）x 1,670（高）mm	1,200（寬）x 1,090（深）x 1,800（高）mm
凈重		大約 450公斤	大約 550公斤	大約 700公斤
選件		NWF 15X目鏡（一對） 9英寸電視監視器系統（黑白）		--

MPEM-1600	MPEM-12M	MPEM-16M
（適用于直徑大為4英寸的晶片）	（適用于直徑大為6英寸的晶片）	（適用于直徑大為8英寸的晶片)