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離子濺射儀 MC1000

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更新時間:2022-07-22 10:49:53瀏覽次數:269次

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產品簡介

采用磁控型電極,限度地減輕對樣品的損壞

詳細介紹

采用磁控型電極,限度地減輕對樣品的損壞。

 

特點:

? 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件

? 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

? 記憶功能可存儲常用加工條件

 

規格:

項目說明
放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓 0.4 kV DC(直流可變)
電流 40 mA DC
噴鍍速率 *1()
[條件]
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件)15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件)20 nm/min
Au 靶(選配件)35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件)25 nm/min
樣品尺寸直徑φ60 mm
高度20 mm
機械泵135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸寬度450 mm
長度391 mm
高度390 mm
重量主機:約 25 kg
機械泵:約 28 kg
*1
: 噴鍍速率僅供參考
*2
: 主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。

 

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