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當前位置：上海雋思實驗儀器有限公司>>HMDS烘箱>>HMDS預處理系統>> JS-MOL00HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機
| 材質 | 316L不銹鋼 | 工作室尺寸 | 45mm |
|---|---|---|---|
| 功率 | 2500 | 類型 | 真空 |
| 適用范圍 | MEMS,氮化鎵，砷化鎵，半導體 | 溫度范圍 | 230℃ |
HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機用途
使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉，形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。
HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機應用行業
MEMS系統
CVD薄膜；
光刻
用于光刻膠附著力的 HMDS
作為聚合物和基材之間的粘合層
作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層；
噴墨
防止墨水積聚在噴嘴面板上，確保墨水流動不受限制；
生物MEMS
親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性，或防止蛋白質吸收，或減少器件性能的“漂移"
微陣列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白質、抗體、組織；
光學和 AR/VR 應用
修改光學特性
創建納米壓印層或鈍化層；
圖像反轉
金屬剝離工藝，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝；
HMDS烘箱 圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機技術性能
材質：內箱采用316L級不銹鋼
工藝溫度：100-150℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：≤±0.5
真空度：≤133pa（1torr）
操作界面：人機界面，一鍵作業
層數:2層
HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
圖像處理：圖像反轉
真空泵: 進口無油泵
保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等
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