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大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現結構較好的轉移,復制.

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機氣相沉積系統硅烷偶聯劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合...

HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實...

可程式HMDS蒸鍍設備，HMDS真空鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了H...

氣相成底膜烤箱，HMDS蒸氣淀積系統用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變為憎水性，增強表面的黏附性（H...

智能型HMDS涂膠機，自動HMDS涂膠鍍膜機也稱為HMDS處理，是用于使晶片表面呈疏水性的處理。

HMDS涂膠機，智能型HMDS涂 膠機將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物...

光刻工藝HMDS鍍膜機，MOS器件HMDS鍍膜 機涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關鍵步驟。

HMDS鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降...

HMDS涂膠系統，HMDS涂膠烤箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處...

HMDS鍍膜機設備。整個系統采用優質醫用級316L不銹鋼材料制作，無發塵材料，適用百級光刻間凈化環境。

抗粘劑蒸鍍機，抗粘層鍍膜機在基片與彈性支撐層之間還形成有抗黏層，抗黏層一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

脫模劑蒸鍍機，脫 模劑鍍膜烤箱應用于半導體，光電、電子行業硅片、砂紙或石英硬模板等材料。