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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由來
半導體工藝中需要在各種襯底上進行光刻膠涂布，黏附性是否良好是最大的問題。黏附差導致嚴重的側面腐蝕，線條變寬，甚至有可能導致圖形全部消失，濕法刻蝕技術要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。
提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個步驟：
a、涂膠前進行脫水堅膜;
b、使用黏附促進劑，即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;
c、高溫后烘。
完成以上工藝僅用我司生產的HMDS真空烘箱即可。
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制儀表：人機界面，一鍵運行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無油渦旋真空泵
HMDS真空烘箱也稱為智能型HMDS真空系統 將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
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