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上海艾時微技術開發有限公司
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采用雙旋轉補償技術，可測量穆勒矩陣的全部16個單元，RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產品。
一、 簡介
J.A.Woollam公司于1987年由Woollam教授等創辦。公司是由內布拉斯加州立大學的科研成果為基礎衍生而來的專業生產光譜型橢圓偏振測量儀的廠商，公司研發、生產多種不同規格型號的橢偏儀。
J.A.Woollam公司擁有超過100項的橢偏patent技術，確保公司的技術處于地位。已有2000多套橢偏儀已被安裝到世界各地，廣泛應用于各種領域的科研與生產當中。RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產品。采用雙旋轉補償技術，可測量穆勒矩陣的全部16個單元。
二、 技術特點
設備特點：采用雙旋轉補償器，高精度快速測量。
采用消色散的補償器，性能更優化。
的光源，計算機可控輸出光強。
的光束對準系統，數據測量更準確。
波長范圍： 193-1690nm（超過1000個波長點）
變角范圍： 45°-90°（水平樣品臺）
20°-90°（垂直樣品臺）
測量速度：典型數據全光譜測量不超過1秒。
自動樣品臺尺寸：8/12寸多種樣品臺可選
三、 應用
單層膜或多層膜疊加、單一膜層及液態膜層，測量薄膜厚度、反射率和透射率、折射率等光學常數。
半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示：OLED、氧化層厚度、ITO
光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
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