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武漢頤光科技有限公司
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ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等?？蓱糜诟鞣N各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數...
一、概述
ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業的創新技術，具備 1 全穆勒矩陣測量技術， 2 雙旋轉補償器同步控制技術，3 超級消色差補償器設計技術，4 納米光柵表征測量技術 等技術?？蓱糜诟鞣N各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析，代表當今橢偏行業技術水平。
■ 雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；
■ 配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優質硬件模塊；
■ 軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷；
■ 豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力
二、產品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 可實現穆勒矩陣數據處理，測量信息量更大，測量速度快、數據更加精準；
■ 基于雙旋轉補償器配置，可一次測量獲得全穆勒矩陣的16個元素，相對傳統光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測量信息；
■ 頤光技術確保在寬光譜范圍內，提供優質穩定的各波段光譜；
■ 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
■ 集成對納米光柵的分析，可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息；
三、產品應用
■ 半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等；
■ 半導體周期性納米結構：納米光柵，套刻誤差，T型相變存儲器等；
■ 新材料，新物理現象研究：材料光學各向異性，電光效應、彈光效應、聲光效應、磁光效應、旋光效應、Kerr效應、Farady效應等；
■ 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
■ 光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數測量，膜層厚度及表面粗糙度測量等；
■ 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
■ 生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等；
■ 塊狀材料分析：固體（金屬、半導體、介質等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數k表征，玻璃新品研發和質量控制等。
建議配件
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| 溫控臺 | Mapping擴展模塊 | 真空泵 | 透射吸附組件 |
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