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深圳市嘉士達精密儀器有限公司
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SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設備產品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質
SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設備
產品簡介
橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成*偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進入樣品介質后會反射回到橢偏儀檢偏器內，由于樣品介質會對偏振光的偏振態發生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理來表征介質的性質的。
SE200BA-M300型號實現250nm到1000 nm超長波段的探測，可實現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。
設備配置
型號：SE200BM-M300
探測器：陣列探測器
光源：高功率的DUV-Vis-NIR復合光源
測量角度變化：手動調節
平臺：ρ-θ配置的自動成像
軟件：TFProbe 3.2版本的軟件
計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
電源：110–240V AC/50-60Hz，6A
保修：一年的整機及零備件保修
波長范圍：250nm到1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm至5mm可變
入射角范圍：0到90度
入射角變化分辨率：5度間隔
樣品尺寸：zui大直徑為300mm
基板尺寸：zui多可至20毫米厚
測量厚度范圍*：0nm〜10μm
測量時間：約1/位置點
精度*：優于0.25％
重復性誤差*：小于1 Ǻ
參數規格
波長范圍：250nm 到 1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm 至 5mm 可變
入射角范圍：10 到 90 度
入射角變化分辨率：0.01 度
樣品尺寸：zui大直徑為 300mm
基板尺寸：zui多可至 20 毫米厚
產品相冊
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