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上海沛沅儀器設備有限公司
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PLUTO-WIN是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統，它通過優化的系統設計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，專業的機械設計與優化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩定重復性很好。
產品特點● 4/6/8英寸兼容，單片晶圓真空傳輸系統
● 低成本高可靠，適合研發及小規模生產
● 設備結構簡單，外形小
● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
● 優異的刻蝕均勻性，刻蝕速率快
●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統
● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
● 斷面輪廓可控性高，刻蝕表面平整光滑
技術參數晶圓尺寸：4/6/8英寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.
應用領域適用領域：化合物半導體，MEMS、功率器件、科研等領域
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