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昆山琦凡精密儀器有限公司
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簡要描述：光學鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。
價格區間 10萬-30萬 產地類別 國產
名 稱：光學鍍膜橢偏儀
型 號：ME-L
品 牌：頤光
光學鍍膜橢偏儀在手機蓋板中的應用
光學鍍膜就好比女士化妝，不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮，也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用，所以在如今這個“看臉”的時代，蓋板的光學鍍膜是非常重要的，目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應用。
光學鍍膜橢偏儀蓋板光學鍍膜痛點分析
1、AR膜透過率不合格NG
2、顏色膜調色困難，周期長。
3、量產過程產品不穩定，存在色差。
橢偏儀在光學鍍膜各階段的作用
造成蓋板光學鍍膜產品不良的主要因素在于：
A；仿真設計調用材料折射率與鍍膜生產中實際材料折射率不符。
B；鍍膜設備實際鍍層厚度與膜系設計要求不符。
C；量產過程對鍍膜設備穩定性/均勻性缺乏有效評估手段。
橢偏儀可以有效測量修正上述影響因子，為蓋板量產保駕護航。
1：膜系設計——膜層實際折射率的標定
★鍍膜實際折射率的影響因素：供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等
★橢偏儀可直接測量獲得薄膜材料的光學常數和薄膜厚度，因此通過鍍膜機在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜，可直接準確測量獲得薄膜的光學常數。
★通過調整鍍膜機參數，以橢偏儀測量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學常數為反饋，將薄膜材料光學常數調整至狀態。此時對應的鍍膜機參數即為厚度鍍膜時所需設定的終參數。
2：工藝研發——鍍膜設備tolling校正
★通常來說，鍍膜機通過晶振來控制鍍膜厚度，而實際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足，導致實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機中，可通過工具因子（Tooling值）控制鍍膜機的蒸鍍速率，進而可對實際鍍膜厚度進行調控。
★橢偏儀可以準確測量獲得薄膜的厚度，因此可用于校正鍍膜機的工具因子（Tooling值），使實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度*。
3；量產監控——實時監測各項鍍膜指標
★鍍膜膜厚是否在設計范圍。
★材料折射率有無顯著波動。
★透過率是否滿足工藝需求。
★色度值是否滿足工藝需求。
★反射率是否滿足工藝需求。
光學鍍膜橢偏儀售后服務：
1、廠家貨源
貨源有保障，可以根據客戶不同測試需求，提供不同測試方案。
2、關于售后
4小時電話響應，24小時內安排。終生維護。
3、關于發貨
到款4-5天內到貨，江蘇、深圳區域第二天可以到貨。
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