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輔光精密儀器(上海)有限公司


離子研磨儀

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產品型號

品       牌

廠商性質其他

所  在  地上海

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更新時間:2023-11-14 13:14:33瀏覽次數:291次

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產品簡介

離子研磨儀是為SEM或TEM電鏡樣品制備設計的離子磨裝置,使用氬離子束蝕刻樣品的橫截面,避免了物理變形和結構損傷,而不需要復雜的化學過程

詳細介紹

離子研磨儀是為SEM或TEM電鏡樣品制備設計的離子磨裝置,使用氬離子束蝕刻樣品的橫截面,避免了物理變形和結構損傷,而不需要復雜的化學過程。
此外,該離子研磨儀通過處理從幾十微米到幾毫米的大面積,簡化了樣品的橫截面分析。

離子研磨儀特點

每小時700μm的高蝕刻速率(基于Si,8kV)
能夠保存/加載經常使用的配方
具有自動執行功能的分步配方
使用智能樣品架輕松裝載樣品
通過室內攝像機實時觀察離子束狀態和蝕刻狀態
操作方便-直觀的GUI和簡單的觸摸屏
通過離子束自動開啟/關閉功能zui大限度地減少熱損傷
使用內置數字顯微鏡與離子束快速方便地對準樣品
帶噪音、振動、無油隔膜泵
為大面積平面蝕刻提供平面銑削功能

離子研磨儀研磨過程

離子研磨儀規格參數

離子加速電壓:2-8KV

研磨速度:700?/h (at 8kV on Si wafer)

樣品臺擺角:±35°

zui大容納樣品尺寸:16(W) × 10(D) × 9.5(H)mm

樣品運動范圍:X axis : ±1.5mm,Y axis : ±2mm

平板掩模臺傾角:40° to 80°

平面研磨的樣品尺寸:?30 × 11.4(H)mm

控制:7英寸

數字顯微鏡放大倍率:5X,10x,20x,40x

氣體要求:氬氣(99.999%)

氣壓:0.1MPa

氣流控制:質量流控制

尺寸:607(W) × 472(D) × 277.5(430.5)(H) mm

重量:36kg


離子研磨儀研磨結果



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