特別聲明：EM01-RD多入射角激光橢偏儀（研發(fā)）已升至EMPro31型多入射角激光橢偏儀，主要升內(nèi)容包括：?jiǎn)未螠y(cè)量速度提高3倍;新的儀器外形;整體穩(wěn)定性增強(qiáng).納米薄膜研發(fā)領(lǐng)域的多入射角激光橢偏儀，用于納米薄膜的厚度、折射率n、消光系數(shù)k等參數(shù)的測(cè)量

詳細(xì)介紹

特別聲明：

EM01-RD多入射角激光橢偏儀（研發(fā)）已升至EMPro31 型多入射角激光橢偏儀，主要升內(nèi)容包括：

單次測(cè)量速度提高3倍;

新的儀器外形;

整體穩(wěn)定性增強(qiáng).

納米薄膜研發(fā)領(lǐng)域的多入射角激光橢偏儀，用于納米薄膜的厚度、折射率n、消光系數(shù)k等參數(shù)的測(cè)量。適用于光面或絨面納米薄膜測(cè)量、塊狀固體參數(shù)測(cè)量、快速變化的納米薄膜實(shí)時(shí)測(cè)量等不同的應(yīng)用場(chǎng)合。采用量拓科技多項(xiàng)技術(shù)，儀器操作具有個(gè)性化定制功能，方便使用。

特點(diǎn)：

高精度、高穩(wěn)定性

一體化集成設(shè)計(jì)

快速、高精度樣品方位對(duì)準(zhǔn)

多入射角度測(cè)量

快速反應(yīng)過(guò)程的實(shí)時(shí)測(cè)量

操作簡(jiǎn)單

豐富的材料庫(kù)及物理模型

強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析和管理

應(yīng)用領(lǐng)域：

可對(duì)納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k進(jìn)行快速、高精度、高準(zhǔn)確度的測(cè)量，尤其適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)

可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構(gòu)膜系，以及塊狀材料（基底）。

應(yīng)用領(lǐng)域涉及納米薄膜的幾乎領(lǐng)域，如微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、聚合物及金屬表面處理等。

性能保證：

高穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、高精度的采樣方法以及低噪聲探測(cè)技術(shù)，保證了系統(tǒng)的高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度

.高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直望遠(yuǎn)系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)

穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn)，結(jié)合采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量

分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和相對(duì)厚度的測(cè)量

一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間

軟件方便納米薄膜樣品的測(cè)試和建模。

技術(shù)指標(biāo)：

激光波長(zhǎng)	632.8nm (He-Ne laser)
膜厚測(cè)量重復(fù)性	0.01nm (對(duì)于Si基底上110nm的SiO2膜層)
折射率精度	1x10-4 (對(duì)于Si基底上110nm的SiO2膜層)
光學(xué)結(jié)構(gòu)	PSCA
激光光束直徑	<1mm
入射角度	40°-90°可選，步進(jìn)5°
樣品方位調(diào)整	三維平移調(diào)節(jié) 二維俯仰調(diào)節(jié) 光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)
樣品臺(tái)尺寸	Φ170mm
單次測(cè)量時(shí)間	0.2s
推薦測(cè)量范圍	0-6000nm
大外形尺寸(長(zhǎng)x寬x高)	887 x 332 x 552mm (入射角為70º時(shí))
儀器重量（凈重）	25Kg