【主要應用】
前道：Light Etching；Descum strip；PR Ashing；離子注入后，光刻后，鍍膜前等工藝過程；
后道/*封裝/3D IC：Descum Bumping；Plasma Treatment；Wafer Cleaning等。
【主要參數】
? 雙Cassette
? 3軸機械手
? 單射頻源配置（13.56MHz）
? 單微波源配置（2.45GHz）
? 雙源配置（RF/MW）
? DCP雙源（RF/RF）
? 適應wafer 100mm~200mm
暫無信息 |
當前位置：亞科電子（包括亞科電子（香港）有限公司、北京亞科晨旭科技有限公司等）>>Trymax>> Trymax NEO200A系列自動干法去膠
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