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等離子處理機清洗半導體晶圓

2021-2-12  閱讀(943)

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等離子體清洗機作為一種的干式清洗技術,具有綠色環保等特點,又叫等離子處理機;隨著微電子行業的迅速發展,等離子清洗機也在半導體行業的應用越來越多。

等離子處理機在清洗過程不產生任何污染,處理效果非常均勻穩定。可處理各種類型和形狀的產品,而且使用范圍廣泛,電腦玻璃蓋板,汽車,航天,塑膠,印刷包裝、電子類產品,醫療生物,紡織工業、復合材料、金屬材料及其它機械零配件局部和整體加工等表面清洗處理、刻蝕、活化等。

等離子清洗機在半導體晶圓清洗工藝上的應用

等離子體清洗設備具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環境污染等問題。等離子清洗機常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。等離子清洗機在去膠工藝中具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等,因此越來越受到人們重視。

 

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