詳細介紹
等離子處理設備廠家生產制作的設備可用于消除金屬表層的去油有機物以及氧化層清洗,在濺射、噴涂、粘合、焊接,錫焊和PVD,CVD涂覆前,開展等離子處理,才可以得到*整潔的表面無氧化的表層。等離子化解決在這類狀況下能夠造成下列反應:
1、灰化表面有機層:
材料表面將遭受化學轟擊;受到高溫狀態下污染物會蒸發出來;環境污染物質在較高能正離子的沖擊性下被破碎,隨后釋放出。
因為等離子每秒鐘只有透過數納米薄厚,因而污染層不可以太厚。
2、等離子清洗設備用以除去金屬氧化物:
氧化物與處理的氣體產生化學變化,這一過程用氫或氫與氬的混合物來開展。有時也選用二步生產加工技術,開始用氧氣將表層氧化五分鐘,隨后用氫與氬的混合物去除氧化層。
3、等離子蝕刻用于焊接:
一般狀況下,印刷電路板在焊接前用有機化學助焊劑處理。這種化學物焊后需要用等離子法去除,不然會產生腐蝕等問題。
4、等離子去膠、鍵合:
電鍍工藝、粘合、焊接工作中的殘余物會消弱優良鍵合,這種殘余物可以用等離子法有選擇性地除去。另外空氣氧化這也會危害鍵合的品質,也是需要等離子清洗。
名稱(Name) | 噴射型AP等離子處理系統(Jet type plasma processing system) |
等離子電源型號(Plasma power model) | CRF-APO-R&D-XXXD |
直噴式等離子噴槍型號(Direct jet type plasma spray gun modet) | 直噴式:DXX(Option:2mm-6mm) |
電源(Power supply) | 220V/AC,50/60Hz |
功率(Power) | 1000W/25KHz(Option) |
功率因素(Power factor) | 0.8 |
處理高度(Processing height) | 5-15mm |
處理寬幅(Processing width) | 直噴式(Direct jet type):1-6mm(Option) |
內部控制模式(Internal control mode) | 數字控制(Digital control) |
外部控制模式(External conteol mode) | 啟停I/O(ON/OFF I/O) |
工作氣體(Gas) | Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa) |
電源重量(Power weight) | 8kg |