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FISCHERSCOPE X-RAY XDV-µ

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更新時間：2021-11-17 11:05:43瀏覽次數(shù)：257次

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菲希爾測試儀器(中國)有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：43條

所在地區(qū)：福建廈門市

聯(lián)系人：葉先生（銷售）

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產(chǎn)品簡介

特點同時測量從Al（13）到U（92）的多達24個元素

詳細介紹

特點

同時測量從Al（13）到U（92）的多達24個元素，XDV-μLD:S（16）-U（92）
*的多毛細管光學(xué)系統(tǒng)，可將X射線束聚焦到10μm（FWHM），用于微結(jié)構(gòu)測量
可編程XY工作臺和模式識別，用于多個樣品的自動測量
擴展樣品臺方便樣品的定位
向?qū)叫蔬^程
穩(wěn)健設(shè)計適合長期使用
光學(xué)顯微鏡（放大270倍），顯示圖像和激光定位點，可顯示精確的測量點
無需校準即可進行測量的基本參數(shù)分析
符合IPC-4552A、4553A、4554和4556，ASTM B568，ISO 3497標準
Fischer的認證標準片可追溯到的基本單位

應(yīng)用

微米和納米范圍內(nèi)的Au/Pd/Ni/CuFe和Sn/Ni鍍層
組裝和未組裝電路板
納米范圍內(nèi)的基底金屬化層（bump metallization，UBM）的測試
測量輕元素，例如測量金和鈀下的磷含量（在ENEPIG和ENIG中）
銅柱上的無鉛焊料蓋
測試C4和較小焊點的元素組成，以及半導(dǎo)體行業(yè)中的小接觸面

焊錫塊？線路板？引線框？只需使用一臺儀器即可測量所有這一切！

FISCHERSCOPE® XDV®-μ光譜儀是Fischer的X射線熒光系列，專為在最小的結(jié)構(gòu)上進行精確的鍍層厚度測量和材料分析而開發(fā)。所有儀器都配備了一個多毛細管光學(xué)元件，可將X射線束聚焦到10μm（FWHM）。與采用準直器的光學(xué)元件相比，多毛細管光學(xué)元件可以產(chǎn)生高輻射強度，從而大大縮短了測量時間。

所有FischerXRF儀器均配有功能眾多的WinFTM軟件，可在較高的精確度下測量各種應(yīng)用。WinFTM還有一個集成的報表生成工具，您只需單擊一下就可以創(chuàng)建單個報表。此外，WinFTM軟件還提供了向?qū)缘男省?/p>

XDV-μ設(shè)備通過濾波器，電壓和電流設(shè)定的系列組合，允許您為多達24個元素的復(fù)雜應(yīng)用創(chuàng)造的激勵條件。此外，XDV-μ配備了一個可編程的XY工作臺和模式識別軟件，很容易自動測量多個樣品。

標準版本XDV-μ配備了鎢X射線管，用于常規(guī)應(yīng)用的高精度測試。也可根據(jù)需要選擇鉬和鉻射線管。

XDV-μ儀器配備了一個大面積硅漂移探測器（有效面積50 mm2）和新型的數(shù)字脈沖處理器（DPP+）。這些組件一起使用時，可以實現(xiàn)很高的計數(shù)率，這有助于最小化測量時間，同時優(yōu)化重復(fù)性。

特殊應(yīng)用的專用儀器

XDV-μ系列包括專門為電子和半導(dǎo)體行業(yè)的特定應(yīng)用量身定制的專用機型。例如，XDV-μLD是定制用于組裝好的的PCB上進行測量，XDV-μWafer具有自動晶片吸盤，并且XDV-μLEAD FRAME針對測量引線框架鍍層優(yōu)化設(shè)計的。

想了解更多嗎？把您的樣品寄給我們或給您安排免費演示XDV-μ系列！

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ / XDV-μ LD

為了能以最少的時間測量最微小結(jié)構(gòu)的樣品，我們開發(fā)了FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ 系列儀器。大面積硅漂移探測器及多毛細管透鏡確保了在測量諸如鍵合面、表面貼裝器件及細線等樣品時的高準確性和高重復(fù)性。這樣就能對印制線路板上的鍍層厚度進行長時間且高精度的監(jiān)控。

FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LD 型儀器是您測量大尺寸樣品的理想儀器。由于測量距離可達12mm，即使是裝配了元器件的PCB也可輕松測量。

配鎢鈀的微聚焦透鏡；鉬靶可選
4個可靈活切換的初級濾波器
專為以短時間測量小尺寸點而設(shè)計的多毛細管透鏡 (10 – 60 µm FWHM)
20或50 mm2 有效面積的硅漂移探測器
3種放大倍數(shù)視頻顯示，用于精確樣品對位
高精度可編程測量平臺，適用于全自動測量

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ LEAD FRAME

引線框架測量可信賴的專家。借助 FISCHERSCOPE® X-RAY XDV®-µ LEAD FRAME，您可以在平面樣品上，在納米范圍內(nèi)高精度測量超薄鍍層的厚度。典型應(yīng)用包括CuFe基體上的Au、Pd和Ni厚度測量。同時，這一X射線熒光儀器也十分適合用來測量NiP層中的P含量。

XDV-µ LEAD FRAME 配備了專為優(yōu)化低能量段信號而開發(fā)的可切換初級濾波器和多毛細管透鏡。從而為相應(yīng)的測量需求提供了理想的激發(fā)條件。