ulvac-kiko 真空泵 低溫泵 再生氣體配管單元 離子濺射儀
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EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀、EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀
EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀(噴金儀)。EMS-575T樣本放置在旋轉樣品臺上(the rotary stage),蓋好蓋子(the chamber lid),按下啟動按鈕,渦輪分子泵開始加速,5秒鐘后,機械泵開始啟動,同時十秒氣體排空程序啟動,兩個泵同時運行確保一個高真空。當渦輪泵加速,它的速度由柱狀圖來標示,到達速度的一半時,真空計扭至自動狀態。當腔內氣體壓降為10-4 mbar,排氣開始,腔內氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間,排氣的zui后階段,靶材按照預訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的,不需要關泵,繼續濺射另一種金屬。噴鍍完成后,兩個泵停止,排氣閥排氣。
儀器尺寸 | 450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H) |
工作腔室 | 硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H) |
加不銹鋼底座 | 110mm(Dia.) x 115mm(H) |
重量 | 42Kg |
靶材 | 54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (標準鉻靶材和金靶材) |
樣品臺 | 60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋轉,一定的傾斜度 |
真空泵工作范圍 (Penning) | ATM to 1x10-7 mbar,鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar |
操作真空 | 1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar |
濺射電流 | 0-175mA |
濺射時間 | 0-4 minutes |
功率 | 1000v at 100 ma, 100 watts |
沉積速率 | 30nm/min at 100ma |
渦輪分子泵 | 60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar) |
電源配置 | 230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump) |
Services | Argon Nominal 4 psi |
真空泵(*配件) | 附帶真空管和油氣過濾器 |
貨號 | 產品名稱 | 規格 |
91110-TH | EMS 575T Twin Head Sputter Coater, complete with Target | 臺 |
91005 | Rotary Vacuum Pump | 個 |
92045 | EMS 50 Water Chiller | 個 |
EMS 550具有旋轉樣品臺,可傾斜,適合各種樣品。參數可預設,全自動控制保證獲得精確的鍍層厚度。低電壓濺射、冷濺射、精細顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)??蛇x靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設計在儀表板上,使用方便,滿足不同學科的用戶使用要求。 濺射參數可預設,包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設置,就不需要再調節。濺射頭互鎖,系統可選配EMS250鍍碳附件。
儀器尺寸 | 450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H) |
工作腔室 | 硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H) |
安全罩 | 聚碳酸酯 |
重量 | 18Kg |
靶材 | 60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標準靶材) |
樣品臺 | 60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之間可調 |
真空泵工作范圍 | ATM-1x10-2 mbar |
濺射電流 | 0-50mA |
濺射鍍膜時間 | 0-4 minutes |
沉積速率 | 0-25nm/分 |
電源配置 | 230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump) |
貨號 | 產品名稱 | 規格 |
91000 | EMS 550 Sputter Coater complete with Target | 臺 |
91000-MA | EMS 500 Manual Sputter Coater | 臺 |
91005 | Rotary Vacuum Pump Targets 60mm (Dia.) x 0.1mm (Thick) fitted inclusive as standard | 個 |
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