當前位置:上海雋思實驗儀器有限公司>>半導體烘烤設備>>真空烤箱>> JS-NH090反轉真空烘箱 圖像反轉氨氣爐
材質 | 不銹鋼 | 工作室尺寸 | 350mm |
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功率 | 2800 | 加工定制 | 是 |
類型 | 真空 | 適用范圍 | 半導體,電子,醫療,新材料 |
溫度范圍 | 200℃ | 重量 | 290kg |
反轉真空烘箱 圖像反轉氨氣爐用途
圖像反轉(image inversion)是一種使用正膠和暗場掩模版做出島區的工藝。
在曝光小尺寸圖形時,傾向于使用正膠。正膠適于使用暗場掩模版做孔洞。暗場掩模版大部分被鉻覆蓋,因為鉻不會像玻璃一樣易損,所以缺陷比拋光較少。然而,一些掩模版用來曝光島區。而不是孔洞,比如金屬層掩模版上是島區圖形。
在曝光結束后,光刻膠里的圖像與想要得到的圖像是相反的,也就是說,如果拋光接著顯影的話,會得到孔洞而不是島區。
反轉真空烘箱 圖像反轉氨氣爐性能
尺寸(可定制) | 300×300×300(mm) 450×450×450(mm),可定制 |
材質 | 內箱采用SUS304不銹鋼,外箱采用優質冷軋板靜電噴塑 |
溫度范圍 | RT+50-200℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度波動度 | ≤±1℃ |
操作模式 | 人機界面 |
升溫速率 | ≤5℃/min |
氣體 | 2路供氣 |
真空度 | 0.1~100KPa |
圖像反轉系統 Lmage inversion Oven
已經在很多領域得到了廣泛應用。比如,在汽車制造業中,可以用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝;在電子制造業中,可以用于半導體器件制造中的退火和腐蝕等工藝;在航空航天制造業中,可以用于航空發動機和航天器材料的熱處理等。
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