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高加速溫濕度試驗機，高壓加速老化試驗箱主要用于對電工、電子產品、半導體、IC芯片、固態存儲器、DRAM、閃存卡及模塊、元器件、零部件、金屬材料、塑料晶體管外形封...

HAST高壓老化壽命試驗箱，高加速溫濕度機臺用于評估非氣密性封裝IC器件、金屬材料等在濕度環境下的可靠性。通過溫度、濕度、大氣壓力條件下應用于加速濕氣的滲透，可...

高精度加熱臺，精密熱板用于固化光刻膠，固化環氧塑脂，可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結和考核...

電容烘箱，可程式工業烘箱技術先進、設備性能穩定、使用可靠，操作簡單，維修方便，同時考慮 方案的經濟性和可實施性，結合試品特點和試驗程序實際情況，實現低投入高產出...

充氮PI烤箱，PI充氮烤箱用于PI、BCB、LCP固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求適合半導體制造、COB封裝、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密...

半導體工藝潔凈烘箱，百級無塵烘箱具有*設計的強鼓風循環系統確保了溫度的穩定性，高效循環過濾系統確保箱內的潔凈度,控溫裝置采用 PID 數顯控溫（可選觸摸屏等），...

真空無氧烘箱，高溫無氧真空烤箱用于PI膠、BCB膠固化，鍵合材料預處理，ITO膜退火，PR膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、PC...

全氟辛基三氯硅烷涂膠機，抗粘劑PFTS烘箱主要用于納米壓印光刻（NIL）應用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中HMDS增粘劑涂膠；以及功率半導體,LED,MEM...

冷熱沖擊測試機，冷熱循環氣流儀在短的時間內（約10秒）檢測樣品因高低溫冷熱沖擊（）-65℃～220℃）所引起的化學變化和物理傷害，減少測試與驗證時間，快速提高產...

快速熱處理退火爐，半導體RTP快速退火 爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火，硅化物形成，歐姆接觸制備以及快速氧化，快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間...

不銹鋼無塵烤箱，雙層無塵烘箱應用于目前關鍵的半導體電子行業（如硅片干燥，堅膜烘烤，裝片機后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無塵烘箱還在LED制造行業...

無氧烘箱，無氧化烘箱在半導體集成電路制造過程中，晶圓表面預處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、對準、顯影、顯...

硅片清洗設備，硅片全自動清洗機應用于集成電路，MEMS器件，微波器件，先進封裝等工藝。去膠清洗設備，顯影清洗設備，酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，...

刻蝕機，半導體刻蝕臺用于半導體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設備。

馬弗爐，1200度高溫爐應用于高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測。粉末冶金行業以及義齒加工行業的烘烤、氧化鋯盤預燒結等。根據加熱區大小，進行...

精密熱風循環烘箱用途適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫藥、實驗室等生產及科研部門。 也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試...

工業烘箱，氮氣烘箱，高溫充氮烤箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,...

熱板，高精度加熱平臺采用鋁板作為工作表面,其內置不銹鋼加熱棒,導熱性能好,升溫快，采用PID調節儀控溫，可以精確控制平臺的加熱溫度.適用于半導體光刻工藝的前烘和...

無塵烘箱，MES百級烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中的堅膜工藝，也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

精密熱風烘箱供應干燥箱箱體由角鋼、薄鋼板制成。外殼與工作室間填充玻璃纖維保溫。加熱系統裝置在工作室的頂部。裝有鼓風的本型烘干箱能有效的避免工作室內存在的梯度溫差...