賽默飛三重四極桿質譜儀TSQ Endura離子源
TSQ Endura 配置的是賽默飛新設計的的Easy Max NG 離子盒，具有加熱型HESI 源和APCI 源一體化設計，只需要更換噴針即可實現ESI 源和APCI 源的切換。Easy Max NG 源的另一個特點是集成式氣路電路設計，安裝Easy Max NG 源時即可自動完成氣路和電路的連接，不需要進行額外的操作。同時質譜系統還可自動識別源的類型，真正實現了智能化操作。
另外，電噴霧源噴針沿用了傾斜噴霧角度設計，且前后、左右位置可調，離子傳輸通道下方的不對稱切面，使得多余的溶劑噴霧直接快速的排除到傳輸通道下方，減少離子源的維護周期，使得實際樣品分析試驗中耐受性zui大化。在離子源的排放端口具有恒定的氮氣氣流，去除更多溶劑蒸汽，降低基線噪音并增加系統耐用性。
賽默飛三重四極桿質譜儀TSQ Endura離子傳輸部件
在離子傳輸部件上TSQ Endura 有兩大*設計，1是RF-lens 設計，對于由離子傳輸管中輸入的大量離子具有*的傳輸效率和*的聚焦能力。同時由于RF-lens 的獨立一體化設計以及不銹鋼材質，可以簡單方便地進行拆卸和清洗；第二是彎曲的離子束傳輸組件加上中性粒子擋桿的設計，質譜離子化時會產生一些中性粒子，這些中性粒子如果進入離子通道，會造成質譜圖的噪音干擾，并且極易污染整個離子光學通道，將傳輸四極桿設計成彎曲通道，并在上方加上中性粒子阻擋桿的設計，帶電離子可以受電場影響發生偏轉通過傳輸四極桿，而中性離子不受電場影響不發生偏轉，湮滅在中性粒子阻擋桿上，避免進入四極桿質量分析器。
主四極桿
主四極桿是TSQ Endura 的核心部件之一，其可以對離子進行過濾篩選和掃描，TSQ Endura上用的四極桿是賽默飛的雙曲面四極桿，具有同類產品中zui寬的質量范圍。另一個特性是與其它三重四極桿上所加的振幅相等的RF電壓不同，TSQ Endura 四極桿上加的為不對稱RF電壓，通過施加這種不對稱的RF射頻電壓，將整個四極桿系統的離子傳輸效率提高。
主動碰撞池Q2
離子通過*個四極桿后，進入到碰撞池Q2，Q2的主要作用是將離子進行CID裂解，并高效傳輸到第三個四極桿進行子離子的選擇掃描。TSQ Endura 主動碰撞池Q2采用了彎曲碰撞池設計，并且在軸向有DC 電場，可以對離子進行分段加速，使得碎片離子在Q2中不但拐彎而且被加速，配合更高壓力的Ar做碰撞氣，可以獲得更加豐富、靈敏的二級離子碎片。
雙模式離散打拿級檢測器
TSQ Endura 的檢測器為雙模式離散打拿級檢測器，消除噪音，提高靈敏度。雙模式檢測器可對離子流進行自動智能識別，進行不同模式間的切換和信號擬合，從而實現超高靈敏度和超寬線性動態范圍
