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北京中科復華科技有限公司


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離子束刻蝕機(IBE)

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參  考  價:10 - 280 /臺
具體成交價以合同協議為準
  • 產品型號

    DISC-IBE-150C/200C

  • 品牌

    其他品牌

  • 廠商性質

    生產商

  • 所在地

    北京市

聯系方式:陳經理查看聯系方式

更新時間:2024-04-09 09:59:40瀏覽次數:528次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:12條

所在地區:北京北京市

聯系人:陳經理 (銷售經理)

產品簡介
產地 國產    

IBE刻蝕機采用離子束刻蝕技術,其原理基于離子和固體表面的相互作用。具體而言,離子束通過控制系統加速并聚焦,然后瞄準待刻蝕的樣品表面。離子束在與樣品表面相撞時,會發生多種相互作用,包括散射、表面反射、電子激發和離子抑制等。其中,離子抑制是IBE刻蝕機的核心原理

詳細介紹

應用方向:科研與教學

產品優勢:負角度刻蝕降低反污染,熱態、冷態兩種中和系統,刻蝕腔體前后開門

產品配置:

★離子源種類:考夫曼離子源

★離子源口徑:Φ160mm/220mm

★中和方式:燈絲、冷態等離子體橋

★樣片數量及尺寸:1片Φ100mm/150mm樣品

★刻蝕材料:包括并不限于硅、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、合金、陶瓷等。

★刻蝕腔體:高真空系統

★刻蝕不均勻性:±3%-±6%

★刻蝕速率:10-500nm/min(視具體材料與工藝)

★工作臺:可旋轉,可自傳,可調距離,包含水冷

★工藝氣路:1-2路

★束流檢測:法拉第筒在線檢測

★終點檢測控制:可選配質譜儀

★操作模式:全自動+半自動控制

選型參考:DISC-IBE-150C(離子源口徑160mm);DISC-IBE-200C(離子源口徑220mm)


關鍵詞:工作臺 質譜儀

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