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蘇州尼米茲真空設(shè)備有限公司


離子束濺射鍍膜機(jī)

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更新時間:2023-03-01 16:43:53瀏覽次數(shù):533次

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產(chǎn)品簡介

德國CuttingEdgeCoatingsGmbH(簡稱CEC)成立于2007年是漢諾威激光中心的衍生公司之一,公司致力于離子束濺射鍍膜設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn)和工藝開發(fā)

詳細(xì)介紹

德國Cutting Edge Coatings GmbH (簡稱CEC)成立于2007年是漢諾威激光中心的衍生公司之一,公司致力于離子束濺射鍍膜設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn)和工藝開發(fā)。CEC全自動控制的商業(yè)化量產(chǎn)型離子束濺射鍍膜機(jī),除了可以制備常規(guī)高低折射率光學(xué)薄膜外,其創(chuàng)新性的漸變折射率膜層制備工藝,是離子束濺射技術(shù)的發(fā)展趨勢之一。該技術(shù)在制備高損傷閾值的激光薄膜,復(fù)雜濾光片和Rugate 濾光片等應(yīng)用領(lǐng)域具有優(yōu)勢。除標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備外,CEC還可以根據(jù)客戶的要求提供定制服務(wù)和離子束濺射鍍膜的解決方案。



Navigator 1100生產(chǎn)型型離子束鍍膜系統(tǒng)主要特點如下:

·        主離子源:射頻耦合(頻率:2MHz), 無燈絲, 鈦材質(zhì)三柵級,

Ø 15cm, 離子束流:≥ 500mA離子能量:1-2keV,氬氣/氙氣或氧氣

·        輔助離子源:射頻耦合,無燈絲, 鈦材質(zhì)三柵級,  Ø 10cm

離子束流:0 - 200mA,離子能量:100eV-1000eV, 氬氣或氧氣

·        中和器:射頻耦合,無燈絲, 電流900mA

·        靶材:具有兩個面,每一個面可以安裝兩種不同的靶材

·        在直徑400mm范圍內(nèi)鍍膜均勻性≤1%,無掩模

·        單基片旋轉(zhuǎn)工件架,旋轉(zhuǎn)速度:0-120轉(zhuǎn)/ 可調(diào)

·        石英晶振膜厚控制儀和可見光/紅外/深紫外波段光控可選

·        觸摸屏人機(jī)界面,全自動鍍膜控制系統(tǒng)

·        可選項:進(jìn)樣室,基片加熱或水冷,雙基片工件架等


離子源圖片:











設(shè)備照片:






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