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蘇州尼米茲真空設(shè)備有限公司


離子束濺射鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

德國(guó)CuttingEdgeCoatingsGmbH(簡(jiǎn)稱CEC)成立于2007年是漢諾威激光中心的衍生公司之一,公司致力于離子束濺射鍍膜設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn)和工藝開(kāi)發(fā)

詳細(xì)介紹

德國(guó)Cutting Edge Coatings GmbH (簡(jiǎn)稱CEC)成立于2007年是漢諾威激光中心的衍生公司之一,公司致力于離子束濺射鍍膜設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn)和工藝開(kāi)發(fā)。CEC全自動(dòng)控制的商業(yè)化量產(chǎn)型離子束濺射鍍膜機(jī),除了可以制備常規(guī)高低折射率光學(xué)薄膜外,其創(chuàng)新性的漸變折射率膜層制備工藝,是離子束濺射技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)之一。該技術(shù)在制備高損傷閾值的激光薄膜,復(fù)雜濾光片和Rugate 濾光片等應(yīng)用領(lǐng)域具有優(yōu)勢(shì)。除標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備外,CEC還可以根據(jù)客戶的要求提供定制服務(wù)和離子束濺射鍍膜的解決方案。



Navigator 1100生產(chǎn)型型離子束鍍膜系統(tǒng)主要特點(diǎn)如下:

·        主離子源:射頻耦合(頻率:2MHz), 無(wú)燈絲, 鈦材質(zhì)三柵級(jí),

Ø 15cm, 離子束流:≥ 500mA離子能量:1-2keV,氬氣/氙氣或氧氣

·        輔助離子源:射頻耦合,無(wú)燈絲, 鈦材質(zhì)三柵級(jí),  Ø 10cm

離子束流:0 - 200mA,離子能量:100eV-1000eV, 氬氣或氧氣

·        中和器:射頻耦合,無(wú)燈絲, 電流900mA

·        靶材:具有兩個(gè)面,每一個(gè)面可以安裝兩種不同的靶材

·        在直徑400mm范圍內(nèi)鍍膜均勻性≤1%,無(wú)掩模

·        單基片旋轉(zhuǎn)工件架,旋轉(zhuǎn)速度:0-120轉(zhuǎn)/ 可調(diào)

·        石英晶振膜厚控制儀和可見(jiàn)光/紅外/深紫外波段光控可選

·        觸摸屏人機(jī)界面,全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)

·        可選項(xiàng):進(jìn)樣室,基片加熱或水冷,雙基片工件架等


離子源圖片:











設(shè)備照片:






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