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離子束刻蝕機

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湖南艾科威半導體裝備有限公司

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產品簡介

離子束刻蝕又稱為離子銑，利用離子源引出的離子束，直接轟擊工件，將工件上未被掩膜遮蔽的部分材料濺射出來，實現選擇刻蝕的目的。

詳細介紹

設備特點

●工件臺：圓周旋轉或者掃描運動，刻蝕角度可調，刻蝕均勻性高，兼容刻蝕和拋光功能

●工件臺采用水冷，確保晶片低溫刻蝕

●可配置等離子體中和槍，確保晶片表面無電荷積累

●可配置法拉第測束裝置，確保工藝參數的可重復

●真空系統分子泵/低溫泵可選

技術指標

●工件臺

　　　　適用晶片尺寸：4"～8"，兼容不規則方片

　　　　圓周旋轉/往復掃描運動

●離子源：考夫曼離子源

　　　　　離子束能量：0eV～1000eV連續可調

　　　　　束流：200mA （圓形）或300mA （條形）

●刻蝕均勻性：片內±5%，片間±3%

應用范圍

　　用于在基板表面拋光或材料的去除，尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕，如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、NiCr等

關鍵詞：低溫泵

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