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八帆儀器設備（上海）有限公司
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nanoArch S130是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前......
nanoArch S130是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 2μm |
| XY打印精度 2~10μm | 打印層厚 5~20μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：3.84*2.16mm*10mm |
| 打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm | 重量 650kg |
| 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 3000W |
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物科研樹脂等。
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