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電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡介

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

詳細(xì)介紹

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)


型號(hào):HVC-800DA
廠家:韓國Hanil真空
技術(shù)指標(biāo):
 (1)可沉積各種金屬材料包括難熔金屬、絕緣材料的高純度、高質(zhì)量薄膜樣品. 
 (2)具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔溫(<90oC),適合Lift-Off制程要求.
 (3)可裝載標(biāo)準(zhǔn)的2’’和4’’的晶片和不規(guī)則大小的樣品,樣品的均勻性 <3%. 
 (4)設(shè)置6個(gè)坩鍋,可以完成不同金屬薄膜的多層沉積.
 (5)配有膜厚儀實(shí)時(shí)對(duì)膜厚進(jìn)行檢測,實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的厚度的精確控制。
(6)配備軟件操作系統(tǒng),可編制沉積程序,并可選擇進(jìn)行手動(dòng)和自動(dòng)制程。
主要功能及應(yīng)用范圍
   主要用于光學(xué)膜、電學(xué)膜以及半導(dǎo)體領(lǐng)域的高質(zhì)量薄膜的沉積。

關(guān)鍵詞:鍍膜機(jī) 絕緣材料
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