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深圳市科時達電子科技有限公司
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芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD產品詳情芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD(圖1)襯底尺寸和類型：
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD
產品詳情
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD (圖1)
襯底尺寸和類型：
。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背）
。高達300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫療植入部件，機械部件等）
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll, 襯底寬 300 mm
。多孔，通孔，與高深寬比（HAR）樣品
基片傳送選件：
。氣動升降（手動裝載）
。半自動裝載，用線性裝載器實現
。全自動轉載，用工業機器人實現
工藝溫度： 50 - 500 °C
前驅體 ：
。液態、固態、氣態、臭氧源
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。4根獨立源管線，最多加載6個前驅體源
尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
重量： 400 + 300 kg
選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準 ：標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝
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