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深圳市東信高科自動化設備有限公司
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真空等離子清洗機TS-PL150MA
| 名稱 | 真空等離子清洗機 |
| 型號 | TS-PL150MA |
| 外形尺寸（W×H×D） | 1200×1100×1730(mm) |
| 反應腔尺寸（W×H×D） | 500×500×600(mm) |
| 真空腔體材料 | 進口316不銹鋼 |
| 真空泵 | 雙級組合泵 |
| 角閥 | 北儀 超真空40KF |
| 流量控制器及顯示儀 | 0-800ml/min |
| 真空顯示規管及讀取器 | Pirani |
| 射頻電源 | 美國品牌 40KHZ、 13.56MHZ 、2.45GHZ |
| PLC系統 | 三菱（包括PLC，A/D模組兩組，D/A模塊兩組，溫度模塊） |
| 電氣系統 | 施耐德 |
| 變頻器 | 西門子2KW |
| 觸摸屏 | 中國臺灣威綸真彩10寸 |
| 陶瓷封裝 | 進口高頻陶瓷 |
| 處理氣體 | O2、Ar2、N2，H2、CF4 |
等離子清洗機，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去膠機，等離子清洗設備。適合各種基片、粉體或顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、接枝與聚合等。
TS系列低溫等離子表面處理設備-低壓(真空)等離子清洗機由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統、充氣系統、自動控制系統等部分組成。工作基本原理是在真空狀態下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進行抽真空達到0.02-0.03mbar 的真空度，再在高頻發生器作用下，將氣體進行電離，形成等離子體（物質第四態）。高頻發生器提供能量使氣體電離成等離子態。等離子態顯著的特點是高均勻性輝光放電，根據不同氣體發出從藍色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。
真空等離子清洗機整個清洗過程大致如下：1）被清洗的工件送入真空式并加以固定，啟動運行裝置，開始排氣，使真空室內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。2）向真空室內引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內壓強穩定。根據清洗材質的不同，可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體。3）在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體，讓在真空室產生的等離子體籠罩住被處理工件，開始清洗作業，一般清洗處理持續幾十秒到幾十分鐘不等。4）清洗完畢后切斷電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。
1.環保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環境無污染。
2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；
5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
6.全過程可控工藝：所有參數可由PLC設置和數據記錄，進行質量控制。
7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
真空等離子清洗機技術特點是：它不分處理對象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。
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