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日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

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更新時間:2022-09-28 14:45:27瀏覽次數:249次

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產品簡介

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000,采用磁控型電極,限度地減輕對樣品的損壞。

詳細介紹

日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

特點:

。采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)
。記憶功能可存儲常用加工條件

規格:

項目 說明
放電: 類型: 磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成: 反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓: 0.4 kV DC(直流可變)
電流: 40 mA DC
噴鍍速率 *1():
[條件]:
壓力:7 Pa
放電電流:40 mA
標靶與樣品表面之間的距離:20 mm
Pt 靶(選配件): 15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件): 20 nm/min
Au 靶(選配件): 35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件): 25 nm/min
樣品尺寸: 直徑: φ60 mm
高度: 20 mm
機械泵: 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2: Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求: 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸: 寬度: 450 mm
長度: 391 mm
高度: 390 mm
重量: 主機:約 25 kg
機械泵:約 28 kg

關鍵詞:離子濺射儀
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