特點(diǎn)
· 低壓等離子系統(tǒng),用于不同材料表面的處理
· 配置自動(dòng)/手動(dòng)模式,實(shí)現(xiàn)控制高機(jī)能
· 10.5L腔體可處理多種樣品
· 適合于研究院、高校、研發(fā)中心使用
· 8” Wafer去膠清洗
技術(shù)規(guī)格:
型號(hào) | ATTO | ATTO PCCE | |
控制系統(tǒng) | 手動(dòng)控制 | PCCE 控制系統(tǒng) | |
工藝氣路 | 雙路氣體 | ||
工藝氣體 | O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 | ||
單體導(dǎo)入 | H2O等單體(選配) | ||
流量計(jì) | 針閥流量計(jì) | MFC流量計(jì) | |
真空 腔體 | 材質(zhì) | 高硼硅玻璃腔體,蓋子門(mén)帶觀察窗(石英,鉸鏈門(mén)選配) | |
內(nèi)尺寸(Dia.×D) | 211×300mm | ||
容積 | 10.5L | ||
電極 | 360度外置環(huán)繞電極 | ||
發(fā)生器*
| 40KHz 0~200 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | ||
真空壓力計(jì) | 指針式壓力計(jì)(選購(gòu)) | 皮拉尼數(shù)字式壓力計(jì) | |
計(jì)時(shí)器 | 旋鈕式(選購(gòu)) | 數(shù)字式 | |
托盤(pán) | 高硼硅玻璃(石英選配)W200xD260xH5mm | ||
外形尺寸(WXDxH)mm | 525x450xD450 | ||
電源 | AC220V 50Hz 10A | ||
真空泵 | 排氣速度8m3/H |