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廣州佳睿科學儀器有限公司

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精密離子刻蝕與鍍膜系統PECS II Gatan 685

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更新時間:2021-08-25 15:31:53瀏覽次數:296次

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利用寬幅氬離子束對樣品進行切割、拋光、研磨和鍍膜處理,從而得到高質量SEM成像和分析結果

利用寬幅氬離子束對樣品進行切割、拋光、研磨和鍍膜處理,從而得到高質量SEM 成像和分析結果。

全自動氬離子拋光系統適合用于制備 SEM 樣品,可以得到無損的表面、橫截面和鍍層,以保護樣品或克服非導電樣品的荷電問題。

· 只需一次抽真空,就可現實對樣品的拋光、刻蝕或鍍膜

· 在低至 100 伏的電壓下刻蝕,從而快速地得到無損樣品表面 

· 可制備直徑高達 32 毫米的樣品

· 在不暴露于空氣的情況下,將樣品從 PECS™ II 儀器轉移到 SEM/FIB 或手套箱中(可選)

· 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 軟件存儲和分析圖像,數字光學成像

· 集成的 10 英寸彩色觸摸屏顯示和控制所有 PECS II 參數

精密離子刻蝕與鍍膜系統PECS II Gatan 685

利用寬幅氬離子束對樣品進行切割、拋光、研磨和鍍膜處理,從而得到高質量S

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