主要優勢

由伯努利夾盤對晶圓背面進行全面保護

藥液回收功能可降低成本

可集成氮氣二流體清洗功能

可靈活應用于濕法刻蝕工藝，如硅蝕刻及薄膜蝕刻工藝

先進的噴嘴掃描系統

精密的濕法刻蝕均勻度控制

精密的化學藥液供給

可靈活應用于多種襯底材料，包括重摻雜片、Bonding 片、超薄片等

特征規格

最多可配至8套清洗腔體

配備晶圓翻轉單元

最多可配至5種藥液進行清洗工藝或者濕法刻蝕工藝, RCA 藥液, 氫氟酸，氫氟酸/硝酸混合液, 配方藥液等

伯努利夾盤可對晶片背面全面保護

最多可回收2種化學藥液