產品簡介：
ULVAC CS-200系列磁控濺射鍍膜設備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設備，通過增加配有機械手d裝載固定腔室（Load lock chamber）使在上下基板時工藝腔室仍保持真空。
主要技術參數：
·適用于小于8inch的各種基板；
·配備300℃的基本加熱裝置，可選配600℃的基本加熱裝置；
·可選配RF源；
·膜厚均勻性好于±5%；
暫無信息 |
當前位置：亞科電子（包括亞科電子（香港）有限公司、北京亞科晨旭科技有限公司等）>>PVD>> ULVAC CS-200系列磁控濺射臺
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主要技術參數：
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