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天津中環電爐股份有限公司
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產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
產品用途：
此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控
生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。
產品組成：
CVD系統配置：
1.1200度開啟式真空管式爐（可選配多溫區）。
2.滑動系統分為手動、電動滑動，并配有風冷系統。
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（可選配中真空或高真空）
產品特點：
1 控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結構采用本公司的知識產權設計,提高操作便捷性。
3 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長系統使用壽命。
4 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能爐體不會發生碰撞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統快速降溫。
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