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天津中環電爐股份有限公司
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
產品用途
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品組成
PECVD系統配置;
1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統(單獨購買)
產品特點
電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧,性價比高,可實現快速升降溫,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
系統名稱 | 集成型PECVD系統 | 1200℃小型PECVD系統 |
系統型號 | PECVD-12IH-500A | PECVD-12IH-4Z/G |
控制方式 | 液晶屏微PLC控制系統 | 手動 |
溫度 | 1200℃ | |
加熱區長度 | 200mm | |
恒溫區長度 | 100mm | |
溫區 | 單溫區 | |
石英管管徑 | Φ60mm | Φ50mm |
額定功率 | 1.2Kw | 2Kw |
額定電壓 | 220V | |
滑動方式及距離 | 自動滑動;200mm | 手動滑動;200mm |
溫度控制 | 30段程序控溫 | 50段程序控溫 |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管工作溫度 | <1200℃ | |
氣路法蘭 | 采用多環密封技術卡箍快速連接 | |
排風冷卻裝置 | *的空氣隔熱技術,結合熱感應技術,當爐體表面溫升到50℃時, 排溫風扇將自動啟動,使爐體表面快速降溫。 | |
氣體控制方式 | 質量流量計(按鍵式) | |
氣路數量 | 2路(2-4路) | 4路(可根據具體需要選配氣路數量) |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應時間 | 1sec | |
工作溫度(流量計) | 20-120℃ | |
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力) | |
進氣方式 | 采用防倒流設計 | |
規格 | 中真空(集成型請單獨購買) | |
系統真空范圍 | 10Pa-100Pa | |
真空泵 | 雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/S(選配:其他抽速真空泵),出氣口配有油污過濾器,額定電壓220V,功率0.55Kw | |
信號頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
功率輸出范圍 | 0W-500W | 0W-100W |
反射功率 | 350W | 30W |
射頻輸出接口 | 50Ω,N-type,temale | |
功率穩定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流(187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機功率 | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率,匹配器電容位置,偏置電壓值 | |
爐體外形尺寸 | 290×350×340mm | 290×350×495mm |
系統外形尺寸 | 420×1440×1100mm | 530×2310×750mm |
系統總重量 | 270Kg |
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