三靶射頻磁控濺射鍍膜儀配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。

三靶射頻磁控濺射鍍膜儀

·標配的石英腔體（也可選配金屬腔體）方便觀察（圖1）

·相比傳統濺射儀，體積小巧，拆裝方便（圖2）

·模塊化設計，靶頭，電源等多種可選，自由DIY（圖3）

·基臺可旋轉可加熱

·可濺射金屬和氧化物。實驗室已初步制備了 氧化鋅、碲化鉍、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

1、輸入電源：220V AC50/60Hz

2、設備功率：<1500W

3、靶臺加熱溫度：500℃

4、樣品臺轉速：0-10r/min

5、靶頭可調傾角：0-25度

6、濺射腔體尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 

7、靶材尺寸要求：1英寸磁控濺射靶頭Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）

           2英寸磁控濺射靶頭Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)

8、zui高使用功率：1英寸磁控濺射靶頭100W

           2英寸磁控濺射靶頭300W

?合肥科晶材料技術有限公司成立于1997年，是美國MTI公司與中科院合肥物質科學研究院興辦的*。 公司目前主要從事氧化物晶體（A-Z）系列材料研發生產、濺射靶材制備和材料實驗室及電池研發全套設備。公司從成立之初研發高溫超導薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起，目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界供應商。設備研發的各種高溫爐，大尺寸高溫高壓爐，熱等靜壓爐，單晶生長爐等，用于石墨烯、高通量、蒸發鍍膜、高溫超導薄膜、超導塊材和線材的制備設備，涉及新能源材料，電池制備等成套設備，并為科研工作者提供材料研究解決方案，已經成為企業。