等離子磁控濺射鍍膜儀系列

• 輸入電源：220V AC 50/60Hz  

• zui高使用功率：100W

• 靶頭數量：單個1英寸磁控濺射靶

• 設備功率：800W（包括真空泵）

• 樣品臺加熱溫度：500℃ 

• 一個1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接

• 等離子磁控濺射鍍膜儀系列儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺，其與濺射頭之間距離可調

• 濺射頭角度可調

• 樣品臺可加熱，加熱溫度室溫-500℃

• 安裝有一可手動操作的擋板

• zui大可制膜的直徑為:4英寸

• 可以單獨訂購RF連接線作為備用

?合肥科晶材料技術有限公司成立于1997年，是美國MTI公司與中科院合肥物質科學研究院興辦的*。 公司目前主要從事氧化物晶體（A-Z）系列材料研發生產、濺射靶材制備和材料實驗室及電池研發全套設備。公司從成立之初研發高溫超導薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起，目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界供應商。設備研發的各種高溫爐，大尺寸高溫高壓爐，熱等靜壓爐，單晶生長爐等，用于石墨烯、高通量、蒸發鍍膜、高溫超導薄膜、超導塊材和線材的制備設備，涉及新能源材料，電池制備等成套設備，并為科研工作者提供材料研究解決方案，已經成為企業。