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秋山科技(東莞)有限公司
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日本DNK半導體行業用實驗和研究的手動批量曝光機產品特點

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日本DNK半導體行業用實驗和研究的手動批量曝光機產品特點

 

MA-1200,MA-1400

  • 這是一臺用于實驗和研究的手動批量曝光機,支持玻璃,晶圓,薄膜等。小批量生產的理想選擇。
  • 可以選擇接觸曝光(軟/硬)和接近曝光。
  • 支持z大500 mm x 500 mm的板。配備了光學系統,可根據應用和板子尺寸將超高壓汞燈(500W,1kW,2kW,3.5kW)與各種鏡子,特殊透鏡,聚光鏡等??進行z佳組合。

MA-1200A

  • 手動批量曝光機非常適合于高混合,小批量生產,實驗和研究,并且可以進行穩定的自動間隙控制。

  • 通過減少占用空間實現節省空間。

?


MA-1200

MA-1400

面板尺寸

z大200 x
200mmø4“?ø6”

高達400 x 400mm

光源

超高壓汞燈:500W或1kW

超高壓汞燈:2kW或3.5kW

尺寸和重量

車身尺寸

寬12x深1100 x高1725毫米

寬1440 x深1590 x高1882毫米

 

體重

400公斤

400kg(包括干凈的圍欄)

 

光源重量

--

250公斤

選項

支持特殊的工作尺寸,例如干凈的圍欄,背面對準,硬接觸(真空接觸類型),自動對準,破裂的基板(需要咨詢)


MA-1200A

晶圓尺寸

ø2“?ø6”

光源

超高壓汞燈:500W或1kW

尺寸和重量

車身尺寸

寬850 x深1150 x高1665毫米

 

重量

400公斤

選項

背面對齊,自動對齊,木板破裂,條形碼讀取器和LOG存儲支持(需要咨詢)

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