根據吸附（效率高）和催化燃燒（節能）兩個基本原理設計，采用雙氣路連續工作，一個催化燃燒室，兩個吸附床交替使用。

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其反應原理為：未*氧化的廢水進入二級反應池進行*氧化反應。該池中需定量投加H2SO4溶液，調節水中pH值為89，再加入NaCIO溶液。其反應原理為：此階段的氰酸鹽被分解成CO2和N2，含氰廢水被*氧化分解。反應池分兩級，有效容積約1.25m3/級，設計外形尺寸為1mX1mX1.2m。反應池配套使用耐腐蝕泵1臺，用于將廢水壓入混合廢水調節池，更換鍍液時的廢液回收到安裝在含氰廢水反應池頂的塑料桶裝置內，并與其他含氰廢水同時進行破氰處理。

先將有機廢氣用活性炭吸附，當快達到飽和時停止吸附，然后用熱氣流將有機物從活性炭上脫附下來，使活性炭再生；脫附下來的有機物已被濃縮（濃度較原來提高幾十倍），并送往催化燃燒室催化燃燒成二氧化碳及水蒸汽排出。

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Ebert等［46］在經過O2／CF4等離子刻蝕的PDMS表面，分別采用C4F8等離子改性和常溫氣相沉積PFOTCS進行改性制備了超疏水表面，并對其超疏水性能進行了鑒定。綜上所述，采用常溫常壓CVD技術改性制得的超疏水膜層相較于sol－gel法等液相法改性制得的膜層疏水性、均勻性、化學穩定性和環境耐久性均更優異。但該方法制得的超疏水膜層的疏水層很薄，通常為單分子或幾個分子層厚度，耐沖擊和磨損能力弱，僅能用于不受力的場合。離子增強化學氣相沉積PECVD是指借助外部所加電場的作用引起放電，使原料氣體成為等離子體狀態，變為化學上非常活潑的激發分子、原子、離子和原子團等，促進化學反應，在基材表面形成薄膜。PECVD具有常溫常壓CVD技術的絕大多數優點，并且由于等離子體的作用及等離子體參與反應，使反應物和基材表面均產生大量離子、自由基和亞穩態物質等活性基團，降低反應發生的溫度，縮短反應時間，使熱力學上難以發生的反應變為可能，促進化學反應的進行。