電子產業飛速發展，其生產需要的配套產品需求也大大提高。電子產品對精度要求高，因而對電子元件的清洗要求也是很高的。這些應用既需要有高純度的水質，又需要具有經濟性。

　　在半導體制程中，制作集成電路的尺寸越來越小，晶圓上的組件也隨之縮小，使得各種有機物、粒子的接觸污染及各機臺導致的金屬雜質等污染物大于或相當于組件尺寸的現象更嚴重，若在半導體制程中有污染物殘留在晶圓表面上，將造成組件短路或缺陷，導致集成電路無法使用。因此，半導體制程中不允許晶圓表面上殘留有污染物。污染物的去除是半導體制程中的重要技術，利用超純水中氫氧自由基清洗晶圓表面的方法，以增加粒子移除的效率，并減少制程成本。

　　萊特萊德能夠為用戶提供更優品質的超純水，采用靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。系統優勢如下：

　　1、超純水設備可連續，穩定地生產高純度的超純水，無需因樹脂再生而停機。

　　2、系統集成度高，雙操作系統，更高系統穩定性。

　　3、日常保養維護簡單方便，設備耐用，壽命長。

　　從研發設計、設備制造，到工程施工、運營維護，萊特萊德秉承"科學創新，技術*，以人為本，客戶至上"的經營服務理念。萊特萊德超純水系統廣泛應用于電子芯片、集成電路及封裝、二極管、三極管、傳感器、電子級硫酸、電子級雙氧水、電子級氨水、高精度線路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圓、石英管、超白玻璃、科研、高精尖儀表、珠寶加工等領域。