離子除臭凈化設備機理
等離子體去除惡臭是通過兩個途徑實現的：一個是在高能電子的瞬間是高能量作用下，打開某些有害氣體分子的化學鍵，使其直接分解成單質原子或無害分子；另一個是在大量高能電子、離子、激發態粒子和氧自由基、氫氧自由基（自由基因帶有不成對電子而具有很強的活性）等作用下的氧化分解成無害產物。主要有下面幾個過程：
1、在高能電子作用下，強氧化性自由基O、OH、OH2的產生；
2、有機物分子受到高能電子碰撞被激發，及原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子；
3、O、OH、HO2與激發原子、有機物分子、破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應，有機物分子終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的高低與電子能量和有機物分子結合鍵能的大小有關。
從除臭機理上分析，主要發生以下反應：
H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
H2S去除率可達91.9％，NH3去除率可達93.4％，臭氣濃度去除率可達93.6％。
從上述反應來看，惡臭組分經過處理后，轉變為NOx、SO2、CO2、H2O等小分子，在一定的濃度下，各種反應的轉化率均在95％以上，而且惡臭濃度較低，因此產物的濃度極低，均能被周邊的大氣所接受。
離子除臭凈化設備應用
★含硫的化合物，如硫化氫、硫醇類、二甲基硫、硫醚類及含硫的雜環化合物等
★含氮的化合物，如氨、胺類、腈類、硝基化合物及含氮雜環化合物等：碳、氫或碳、氫、氧組成的化合物（低級醇、醛、酯等）
★苯系物、如苯乙烯、苯、甲苯二甲苯等；含鹵素化合物，如氟利昂、*、二氯甲烷等
★酯類，如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等。
等離子凈化設備、低溫等離子體的反應機理
等離子體是含有大量電子、離子、分子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等組成，總正負電荷數相等，宏觀上呈電中性，但其表現出很高的化學活性，等離子體具有導電和受電磁影響的性質，許多方面與固、液、氣體三種形態不同，是物質的第四種形態。低溫等離子體具有以下特點：等離子體中的電子具有較中性粒子大得多的能量或更高的溫度，帶電粒子的密度數遠遠小于中性粒子總的數密度，（即電離度較小），等離子體為準電中性，即正電荷載流子密度總體上等于負電荷載流子密度。
在氣相化學過程中，惡臭氣體分子在電場中攜能電子的作用下，吸收了電子的能量被激發并部分離解，生成各種碎片自由基，在體系中氧存在的條件下，碎片自由基可以與各種污染物如CO,HC,SOx,H2S,RSH等發生作用，不同的條件下能轉化生成CO2，H2O,N2,S,SO2，等各種形態物質，在這些等離子體化學反應中，電子僅在反應開始起到激發作用，放電增強了物種的活性引發了化學反應。
