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等離子刻蝕機/Plasma Etching

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產品簡介

適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化、刻蝕、清洗，鍍膜

詳細介紹

適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化、刻蝕、清洗，鍍膜。
處理時的因熱負荷及機械負荷都很低，故也可處理敏感性材料。
典型應用：等離子體清除浮渣、光阻材料剝離、各向異性和各向同性失效分析應用、等離子刻蝕反應、鈍化層蝕刻、聚亞酰胺蝕刻等。

	設備參數處理面：直徑10.5"不銹鋼裝載裝置，水冷陶瓷絕緣真空腔：內徑15"陽極電鍍鋁，表面氧化處理處理均勻性±5% 水冷機：W16"× D36"× H24" 氣體箱：W30"× D24"× H12"

	外部連接電源：220V AC 30mA 50/60Hz 壓縮空氣或氮氣：80-100PSI 1/4"快速接頭QC 處理氣體：15PSI 100sccm 1/4"外螺紋VCR接頭排氣：50CFM KF40快卸緊固法蘭水冷：30-60PSI 3/8"快速接頭QC

	基本配置電源配給，RIE 安全互鎖裝置通訊接口模塊設備水電氣連接系統控制器

	RIE配置等離子射頻電源 RF600W（可選裝RF1000W）氣體流量控制：MFC質量流量計×4（1路適用于氯氣）裝載配置：真空裝載腔真空系統、真空裝載腔加熱組件控制系統：電腦控制、標準19"液晶顯示屏真空泵：分子渦輪泵、機械泵（干泵）8cfm-C 真空控制組件、射頻電極組件、真空存儲腔

關鍵詞：質量流量計真空泵渦輪泵

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	設備參數處理面：直徑10.5"不銹鋼裝載裝置，水冷陶瓷絕緣真空腔：內徑15"陽極電鍍鋁，表面氧化處理處理均勻性±5% 水冷機：W16"× D36"× H24" 氣體箱：W30"× D24"× H12"

	外部連接電源：220V AC 30mA 50/60Hz 壓縮空氣或氮氣：80-100PSI 1/4"快速接頭QC 處理氣體：15PSI 100sccm 1/4"外螺紋VCR接頭排氣：50CFM KF40快卸緊固法蘭水冷：30-60PSI 3/8"快速接頭QC

	基本配置電源配給，RIE 安全互鎖裝置通訊接口模塊設備水電氣連接系統控制器

	RIE配置等離子射頻電源 RF600W（可選裝RF1000W）氣體流量控制：MFC質量流量計×4（1路適用于氯氣）裝載配置：真空裝載腔真空系統、真空裝載腔加熱組件控制系統：電腦控制、標準19"液晶顯示屏真空泵：分子渦輪泵、機械泵（干泵）8cfm-C 真空控制組件、射頻電極組件、真空存儲腔

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